等离子体主要是通过气体放电产生，其中包含电子、离子、自由基以及紫外线等高能量物质，具有活化材料表面的作用。下面，三和波达介绍下等离子体清洗技术分为几类。

　　根据反应类型不同，等离子体清洗技术可分为两类：等离子体物理清洗，即借助活性粒子和高能射线轰击而使污染物脱离；等离子体化学清洗，即通过活性粒子与杂质分子反应而使污染物挥发脱离。

　　（1）激发频率对等离子体的清洗类型具有一定影响。例如，超声等离子体（激发频率，40kHz）发生的反应多为物理反应；微波等离子体（激发频率，2.45GHz）发生的反应多为化学反应；而射频等离子体（激发频率，13.56MHz）则涉及到物理、化学双重反应类型。

　　（2）工作气体种类对等离子体清洗类型也具有一定影响。例如，惰性气体Ar2、N2等被激发产生的等离子体主要用于物理清洗，借助轰击作用使材料表面清洁；而反应性气体O2、H2等被激发产生的等离子体则主要用于化学清洗，借助活泼自由基与污染物（多为碳氢化合物）发生化学反应，产生一氧化碳、二氧化碳、水等小分子，从材料表面移除。

　　（3）等离子体清洗类型对清洗效果具有一定的影响。等离子体物理清洗可使材料表面的粗糙度增加，有助于提高材料表面的附着力；等离子体化学清洗可以显著增加材料表面的含氧、含氮以及其他类型的活性基团，有助于改善材料的表面浸润性。

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